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論文

Homoepitaxial film on $$beta$$-FeSi$$_{2}$$ single crystal studied by XPS and XAS

山本 博之; 江坂 文孝

Photon Factory Activity Report 2010, Part B, P. 189, 2011/00

http://pfwww.kek.jp/acr2010pdf/part_b/pf10b189.pdf

$$beta$$-FeSi$$_{2}$$は受発光素子など幅広い応用が期待される半導体材料である。しかしながらFe-Si系化合物は多様な相を持ち、わずかな組成の変化により構造が大きく変化することもあるために、正確な組成の把握及びその制御が実用化に向けた課題の一つである。本研究では、放射光を励起源としたX線光電子分光法(XPS)及びX線吸収分光法(XAS)を用いることにより$$beta$$-FeSi$$_{2}$$単結晶表面上にホモエピタキシャル成長させた$$beta$$-FeSi$$_{2}$$単結晶薄膜の組成及び化学状態について、非破壊で深さ方向分析を行った。励起エネルギーを変化させて測定したSi2pのXPSスペクトルから、薄膜表面に0.8nmの自然酸化膜が存在することを明らかにした。またXASによるSi-K端吸収スペクトルから、作製した薄膜において、基板よりもSi-Fe結合による吸収が増大する傾向が認められ、組成がわずかに異なることが確認された。

論文

Development of a wideband multilayer grating with a new layer structure for a flat-field spectrometer attached to transmission electron microscopes in the 2-4 keV range

今園 孝志; 小池 雅人

Photon Factory Activity Report 2010, Part B, P. 318, 2011/00

http://pfwww.kek.jp/acr2010pdf/part_b/pf10b318.pdf

透過型電子顕微鏡に搭載できる2$$sim$$4keV領域用平面結像分光器を開発するために、新しい膜構造を持つワイドバンド多層膜回折格子を開発した。一定入射角の場合、従来の多層膜回折格子はバンド幅が狭いために当該領域を波長走査するための機械駆動が不可欠であったが、本研究で開発した多層膜回折格子は一定入射角でも当該エネルギー領域において一様に高い回折効率を得ることができるように新しい膜構造を持たせている。この条件は、振動を可能な限り排除したい透過型電子顕微鏡に搭載するために有利である。今回われわれは、PFの二結晶ビームラインBL-11Bに接続した自前の軟X線回折計を用いて、マスタ回折格子に新しい膜構造を積層した多層膜回折格子の回折効率を測定した。その結果、測定エネルギー領域全域(2.1$$sim$$4.0keV)において新型多層膜回折格子は一様に高い回折効率を示すことがわかった。

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